专业流体控制领域供应商
深耕流体控制领域


   

     气体、液体的精密测控以及液体蒸发系统

     稀有高价、放射性气体的取样、加压泵

     等离子的应用及分析仪器     配管工程及自动化设备制造
行业应用


01
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航空、航天
气体、液体流量控制器、蒸发器
02
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半导体、光伏
气体、液体流量控制器、蒸发器、阀门

03
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新能源、新材料
气体、液体流量控制器、气体循环泵
04
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光通讯、石英
气体、液体流量控制器、SiCL4蒸发器
05
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环境科学、科学工程
气体流量控制器、气体循环泵
06
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医疗、食品、生物工程
气体循环泵、液体循环泵、流量控制器

流体控制产品集合

新品上市


等离子监测仪器包括：朗缪尔探针【等离子密度、电子温度、等离子电位】，等离子能量仪【等离子能量、流量】以及射频探测器【腔体的电压、相位、功率、谐波等】异常探测器【等离子异常中的放电】

PWSC-28823-7系列应用于
飞机饮用水系统增压、飞机真空废物系统，有害气体处理及辐射监测系统、适用机型：波音 737、747、757、767系列、空客 A319、A320系列

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Lintec 出展SEMICON China/FPD China

Lintec 出展SEMICON China/FPD China 展位：N1164       SEMI中国|来源：SEMI中国浏览次数：1592发布时间：2024年3月11日　 　 展位号：N1164摘要:上海国际半导体展览会（SEMICON China）已发展成为中国半导体行业规模最大、内容最全面的展。自1988年以来，一直在上海举办的SEMICON China已经成为中国重要的半导体行...

国产半导体装备再破零！

国产半导体装备再破零！点击关注☞ 今日半导体 4天前来源电科装备6月18日，从电科装备旗下烁科中科信公司传来喜讯，公司研发的12英寸中束流离子注入机顺利发往某集成电路大产线，这台由客户直接采购的设备如期交付，标志着公司国产离子注入机市场化进程再上新台阶。据介绍，离子注入机是将特定种类离子以指定参数注入至特定材料中的一种设备，执行的是核心的掺杂工艺。半导体要做成器件，要改变电性能，必须掺入杂质...

《硅太阳能电池的温度变化灵敏度模拟及实验研究》

光伏行研报告：《硅太阳能电池的温度变化灵敏度模拟及实验研究》原创 Mojito 光伏行研 技术总结：由于硅太阳能电池的电学特性很大程度上取决于其运行温度，因此，详细评估太阳能电池的温度灵敏性是至关重要的，从而能够优化其能量输出以满足实际的运行条件。简单地计算表征和模拟中的所有温度依赖关系是非常困难的，因此通常假定几个器件的特性与温度无关，从而造成未知的不准确。本研究首次通过数值装置模拟量化了...

中国拟1万亿扶持芯片！最快明年Q1实施！

据路透社香港消息，中国正在制定一项规模达1439亿美元，折合人民币达10046亿元，该计划最早可能在2023年第一季度实施。路透香港12月13日电---三位消息人士表示，中国正在为其半导体行业制定逾1万亿元（1430亿美元）的一揽子支持计划。这是朝着芯片自给自足迈出的重要一步，也是为了对抗美国旨在减缓其技术进步的举措。报道中指出，消息人士称这是未来五年内其规模最大的财政激励计划之一，主要以补...

流量控制的选型

选择质量流量控制器需要确认如下信息气体种类：流量控制器根据气体的比热来测量流量。根据介质特性选择耐腐蚀性优良的金属密封和低价格的橡胶材料。最大流量：质量流量控制器指定控制流量的最大流量 (F.S.)。通常质量流量控制器的控制范围为 2 至 100% F.S，特殊要求可以达到 0.5 至 100% F.S. 的宽范围选项。压力条件：质量流量控制器内置流量传感器和流量控制阀（控制阀）。由于控制阀...

流量控制器故障分析

流量控制器的故障总结流量反馈波动原因：传感器发生阻塞、传感器部分发生再液化、压差超范围、传感器、阀门或PCB版故障。完全没有流量反馈：阀门处残留异物、压差不足、阀门、传感器、PCB版异常。发生零点漂移：流量控制器本体收到冲击、烘焙式汽化器用流量控制器受到热冲击、传感器发生堵塞，长时间使用后发生的零点偏移。低量程范围不受控：流量控制器阀门部分粘有异物，前后端压差过大，阀门故障。高量程范围不受控...

关于臭氧O3的精密计量计量

半导体、太阳能等行业会用到臭氧O3来做硅片的清洗，但是O3的不稳定性，常常造成流量控制器的损伤。Lintec采用独有质量流量方式的传感技术，其原理利用环境温度传感器（Rt）来测量环境温度。 Ru / Rb流量传感器在Rt传感器测得的环境温度+α温度下加热。相比于传统质量流量传感器，可在更低的温度下实现高精度的流量测量和控制。 由于是在低温下进行高精度的流量测量，从而减少了热损害。这种效果使得...

流量控制器在半导体中应用

半导体（IC）制造过程中。 质量流量控制器在精确的薄膜形成和蚀刻中都发挥着积极的作用。在成膜中应用：成膜分为PVD和CVD两种方式，这里介绍CVD方式，CVD（化学气相沉积）是一种通过向硅晶片提供包含目标成分的气体（气相）并使其与等离子体或热发生化学反应而在硅晶片上沉积薄膜的方法。 这需要精确的气流控制。否则薄膜质量会发生变化，成品率也会变差。在刻蚀中应用：半导体刻蚀分为干法刻蚀和湿法刻蚀两...