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Baking Vaporizer
烘焙式蒸发系统
主要特点

适用通过高温流量控制器对蒸汽进行直接控制,具有精度好、重复性好、无需载气、特别适合连续性蒸发应用,适用于沸点150°C液体

烘焙汽化方式行业应用

适用于半导体、液晶、太阳能、数据存储、光通讯、燃料电池等行业的CVD、LPCVD、PECVD、LCVD、OLED、MOCVD等工艺。

汽化介质

TEOS、HCD 、BTBAS、SiCL4、GeCL4、TiCL4、3DMAS 、H2O、HMDS、HMDSO、DEZ、TMA ……

直接汽化示意图
H2O汽化装置
SiCl4汽化装置
GeCl4汽化装置
TEOS汽化装置
FLASH Vaporizer
直接汽化蒸发系统
主要特点

通过液体流量控制器对液体汽化量进行精确控制,在高温腔室通过对液体的雾化,瞬间将液体蒸发,具有精度好、重复性好、特别适合连续性大汽化量的蒸发应用,适用于沸点300°C以内的液体

烘焙汽化方式行业应用

适用于半导体、液晶、太阳能、数据存储、光通讯、燃料电池等行业的CVD、LPCVD、PECVD、LCVD、OLED等工艺。

汽化介质

TEOS、HCD 、BTBAS、SiCL4、GeCL4、TiCL4、3DMAS 、H2O、HMDS、HMDSO、DEZ、TMA ……

直接汽化示意图
VU-206
TEOS汽化量:4g/min
H2O汽化量: 0.5g/min
最高汽化温度:160°C
VU-430A
TEOS汽化量:10g/min
H2O汽化量: 1.0g/min
最高汽化温度:200°C
VU-450/550
TEOS汽化量:20g/min
H2O汽化量: 5g/min
最高汽化温度:200/300°C
VU-3000
H2O汽化量: 5g/min
最高汽化温度:200°C
VU-920/912/914
H2O汽化量:5/7/30g/min
最高汽化温度:300/200/200°C
QV-1000
H2O汽化量: 15g/min
最高汽化温度:200°C
接气部分:全石英构造
VU-3100
TEOS汽化量:5g/min
最高汽化温度:150°C