流量控制器在半导体中应用

2021-01-21 22:43

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半导体(IC)制造过程中。 质量流量控制器在精确的薄膜形成和蚀刻中都发挥着积极的作用。

在成膜中应用:成膜分为PVD和CVD两种方式,这里介绍CVD方式,CVD(化学气相沉积)是一种通过向硅晶片提供包含目标成分的气体(气相)并使其与等离子体或热发生化学反应而在硅晶片上沉积薄膜的方法。 这需要精确的气流控制。否则薄膜质量会发生变化,成品率也会变差。


在刻蚀中应用半导体刻蚀分为干法刻蚀和湿法刻蚀两种,这里仅介绍干法刻蚀,干法刻蚀是一种将经过抗蚀剂、曝光和显影保护的晶片置于真空室中,用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时,它具备两个特点:一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多,根据被刻蚀材料的不同,选择合适的气体,就可以更快地与材料进行反应,实现刻蚀去除的目的;另一方面,还可以利用电场对等离子体进行引导和加速,使其具备一定能量,当其轰击被刻蚀物的表面时,会将被刻蚀物材料的原子击出,从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。因此,干法刻蚀是晶圆片表面物理和化学两种过程平衡的结果。